Umesto tradicionalnih EUV litografskih mašina, Kina planira da koristi akceleratore čestica u proizvodnji čipova kako bi izbegla sankcije zapada koje joj ograničavaju pristup proizvodnoj opremi. Na taj način, Kina ima potencijal da se pozicionira kao globalni lider u naprednoj proizvodnji čipova na inovativan način pri čemu bi mogla da preoblikuje poluprovodničku industriju, piše South China Morning Post.

Akcelerator čestica je mašina koja koristi elektromagnetna polja da pokreće naelektrisane čestice do veoma velikih brzina i energija, a da ih zadrži u dobro definisanim snopovima. Kineski istraživački tim sa Univerziteta Zinghua razvija jedinstveni laserski izvor koristeći akceleratore čestica.

Njihov cilj je da zaobiđu ograničenja konvencionalnih litografski mašina, koje su ključne u proizvodnji čipova. Predloženi akcelerator čestica biće otprilike veličine dva košarkaška terena, između 100 i 150 metara u obimu, a služiće kao izvor svetlosti visokog kvaliteta za proizvodnju čipova.

Profesor Džao Vu sa Univerziteta Stenford predstavio je osnovnu tehnologiju nazvanu „stabilno mikrogrupisanje“ (steady-state microbunching – SSMB). Ova tehnologija hvata energiju koju emituju naelektrisane čestice tokom ubrzanja, pretvarajući je u kontinuirani, čisti EUV izvor svetlosti. U poređenju sa preovlađujućom EUV metodom holandske firme ASML, SSMB se navodno može pohvaliti superiornom snagom i efikasnošću pritom potencijalno smanjujući troškove proizvodnje čipova.

Shutterstock

Svetlosni izvor SSMB-EUV je dizajniran na Zinghua Univerzitetu, sa projektovanom EUV snagom većom od 1 kW, rekao je istraživački tim još u januaru 2022.

Kineski ambiciozni projekat je u suprotnosti sa strategijama kompanija kao što je holandski ASML, koje se fokusiraju na minijaturizaciju mašina za pravljenje čipova. Umesto toga, vizija Kine uključuje stvaranje džinovske fabrike u kojoj se nalazi nekoliko mašina za litografiju, svih sa fokusom na jedan akcelerator čestica.

Shutterstock

Ovaj dizajn ima za cilj da omogući konkurentne proizvodne procese kao što je 2 nm i više, koji će se koristiti za izradu čipova visokih performansi bez upotrebe tradicionalnih skenera za ekstremnu ultraljubičastu (EUV) litografiju.

Vođa projekta, profesor Tang Čuangšijang kaže da je sprovedena eksperimentalna verifikacija tehnologije, ali da je neophodno izgraditi solidan SSMB uređaj za istraživanje izvora svetlosti koji radi u EUV opsegu. Nakon toga, uređaj bi trebalo da se koristi u naučne i industrijske svrhe, kao i za usavršavanje SSBM tehnologije.

Naučni tim je navodno napravio značajan napredak u ovoj oblasti jer su, kako pišu mediji, uspešno isprobali tehnologiju i sada traže lokacije za izgradnju projekta.

Vođa projekta kaže da je i dalje dug put do nezavisnog razvoja EUV litografskih mašina, ali EUV izvori svetlosti zasnovani na SSMB tehnologiji daju Kini alternativu. Ona tehnologija, međutim, zahteva stalne tehnološke inovacije i saradnju sa drugim industrijama kako bi bio izgrađen upotrebljiv sistem.

Ukoliko Kina uspe u svojoj nameri, ispostaviće se da su potezi Sjedinjenih Američkih Država da izbace ovu državu iz sveta poluprovodnika bili ne samo uzaludni, već i kontraefektni, kako su neki analitičari ranije upozoravali SAD.