Intel se priprema za početak 1,4 nm proizvodnje iduće godine, linija kompletirana
Deo kompanije Intel poznat kao Intel Foundry, odnosno onaj namenjen proizvodnji čipova, saopštio je da je završio montažu prvog komercijalnog High-NA alata za ekstremno ultraljubičastu (EUV) litografiju u svojoj D1X fabrici u Oregonu. To je važan korak dok se kompanija prirpema za razvoj i istraživanje svog 14A, odnosno 1,4 nm proizvodnog procesa u 2025. godini.
Intel Foundry je glavni kupac Twinscan EXE:5000 mašine holandske kompanije – proizvođača alata za proizvodnju čipova ASML, što ga je stavilo ispred komercijalnog rivala TSMC i drugih u pokretanju istraživanja i razvoja sa tom mašinom.
Ova High-NA EUV mašina omogućiće američkoj kompaniji da štampa karakteristike do 1,7 puta manje nego što je to moguće sa aktuelnim EUV alatima, što će konačno otvoriti put da Intel smanji tranzistore u odnosu na standardne Low-NA EUV mašine. To će rezultirati do 2,9 puta većom gustinom tranzistora za jednu ekspoziciju.
Zapravo, ASML je juče saopštio da je jedina druga sastavljena High-NA mašina, njena „pathfinding“ mašina smeštena u Veldhovenu u Holandiji, te da je postavila rekord za EUV sistem štampanjem prvih 10 nm gustih linija sa sistemom litografije celog polja, piše Tom’sHardware.
IntelIntel je, inače, poznat po tome što je decenijama pomagao industriji u razvoju tehnologije litografije prve Low-NA generacije alata, ali je odlučio da je ne koristi za svoj 10 nm proces zbog zabrinutosti u vezi sa troškovima. Umesto toga, kompanija je odabrala četvorostruki uzoraka sa standardnim duboko ultraljubičastim (DUV) litografskim mašinama, zahtevajući četiri DUV eksopzicije za jedan čip sloj umesto jedne ekspozicije sa EUV. Kao rezultat toga, Intel je naišao na brojne poteškoće sa prinosima, što je dovelo do petogodišnjeg kašnjenja njegovog 10 nm procesa.
Kao takav, Intel je ostao zarobljen na 14 nm procesu, dok je dugogodišnji rival, tajvanski TSMC usvojio EUV tehnologiju i preuzeo vođstvo u tehnologiji proizvodnog procesa od kompanije Intel po prvi put. TSMC je zatim naoružao Intel-ove rivale kao što je AMD svojom boljom proizvodnom tehnologijom, što je dovelo do značajnih gubitaka Intel tržišnog udela za proizvodnu stranu poslovanja.
Iako je Intel napokon usvojio tehnologiju EUV sa svojim „Intel 4“ (7 nm) proizvodnim procesom , ali su ga godine kašnjenja dovele do toga da on zaostaje nekoliko procesa za TSMC-om. Sada, američka kompanija kaže da je na putu da ponovo preuzme vođstvo lansiranjem pet proizvodnih procesa u četiri godine (5N4Y), što je ambiciozna inicijativa koja ostaje na putu za završetak do kraja godine. Međutim, posao nikada nije završen i Intel želi da se uveri da usvaja najnoviju tehnologiju kako bi izbegao greške iz prošlosti.
Intel sada planira da razvija svoj novi ‘Intel 14A’ (1,4nm) proces izrade čipova i da nastavi 10A proces (1 nm) sa High-NA EUV mašinama. Intel će prvo smanjiti rizik tako što planira da razvija tačke za proveru proizvoda sa svojim 18A (1,8 nm) procesom u 2025. godini, a zatim da počne razvoj 14A tehnologije izrade. Kompanija takođe planira da bude rani korisnik ASML Twinscan EXE:5200B sistema druge generacije, koji proizvodi više od 200 vafera na sat (WPH), što je značajno poboljšanje u odnosu na trenutne High-NA mašine koje imaju sposobnost za 185 WPH.
Deo kompanije Intel poznat kao Intel Foundry, odnosno onaj namenjen proizvodnji čipova, saopštio je da je završio montažu prvog komercijalnog High-NA alata za ekstremno ultraljubičastu (EUV) litografiju u svojoj D1X fabrici u Oregonu. To je…